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以核心技术铸真空设备中国“芯”

时间：2026-05-25来源：网络作者：Dylan

杭州朗为科技有限公司成立于2015 年，是专注磁控溅射阴极与离子源研发、生产、销售及技术服务的国家高新技术企业，深耕真空镀膜核心部件领域，以自主创新推动国产替代，为高端制造提供稳定可靠的关键组件与综合解决方案。

一、企业根基：技术立身，资质过硬

朗为科技扎根杭州，坚持自主研发 + 产学研协同，与哈尔滨工业大学等高校深度合作，将物理场有限元分析、工程验证与批量制造结合，快速完成产品迭代与定制化开发。公司已形成十余项专利，先后获评国家高新技术企业、杭州市高新技术企业、浙江省中小型科技企业、杭州市雏鹰计划企业，以硬核资质奠定行业地位。

为支撑产品研发与客户验证，公司搭建了完备的测试平台：38×90cm 测试机 1 台、26×120cm 测试机 1 台、8 寸高真空测试机 1 台、120×120cm 镀膜机 1 台等多种测试机，可全面覆盖多规格、多工艺场景的产品开发与性能验证，大幅缩短定制项目落地周期，保障产品稳定性与一致性，高效响应客户定制需求。

全流程测试平台，保障产品性能与定制化交付

二、核心产品：全谱系覆盖，性能对标国际

朗为科技聚焦磁控溅射阴极、离子源两大主线，形成完整自主产品矩阵，同时代理美国 Angstrom、KRI、德国 J.Schneider 等国际一线品牌，兼顾国产自主与全球优选，满足不同客户配置需求。

1. 磁控溅射阴极：高利用率、高均匀性

·圆形平面阴极：支持2–8 英寸靶材，兼容 DC/Pulsed-DC/MF/RF，磁场模块化可单独更换，可选角度调节、靶基距调节、防污染环、匀气环、气动挡板、旋转磁场等多种配置，适配多元镀膜工艺。

·条形平面阴极：靶材宽度50–200mm、长度300–4000mm，靶材利用率高达 41.2%，接近国际顶尖水平；宽靶面刻蚀减少打火，磁场类型丰富，磁铁与水路隔离，整体绝缘设计提升可靠性。

·圆柱旋转阴极：覆盖OD76/OD100/OD152mm规格，磁场强度340GS–1500GS，适配大产能连续镀膜，膜厚均匀性优异，长期稳定运行。

2. 离子源系列：覆盖清洗、刻蚀、辅助沉积

·阳极层离子源：圆形款最大放电电压2500V、离子能量 ＞1250eV；条形款最大放电电压3500V（脉冲 DC），离子能量200–1750eV，适配 Ar、O₂、N₂，用于基材预清洗与辅助沉积。

·考夫曼离子源：分辅助与刻蚀两大系列，规格6–30cm，刻蚀型均匀性 ≤±5%，工作真空1×10⁻²–4×10⁻²Pa，满足高精度刻蚀与薄膜制备。

·ICP 等离子体源：采用13.56MHz 射频、环绕激发提升离化率，线圈置于大气侧降低污染，单线圈设计减少射频干扰，长度可达2 米以上，适配大面积镀膜场景。

·弧光源：轰击能量100V 连续可调，支持全方位清洗与 3D 曲面刻蚀，SUS304 最大静态刻蚀速率 ＞50nm/min，广泛用于光学、装饰、刀具镀膜等领域。

·阴极离子源：放电电流 ＞8A/m，工作压强5×10⁻¹–20Pa，专注 PET/PP 等柔性基材表面清洗活化，提升膜层附着力。

3. 配套与代理产品：一站式解决方案

公司代理德国 ADL 电源、Gasloop 反应气体控制器、流量计等全系列配套零配件，形成一站式解决方案，同时提供离子源与阴极维修、升级、改造服务，形成 “核心部件 + 配套部件 + 技术服务” 一体化能力。其中 Gasloop 控制器通过靶电压闭环控制，消除磁滞效应，使沉积速率提升2–5 倍。

三、核心优势：专注、可靠、高效、定制

·专注深耕：十余年聚焦磁控溅射阴极与离子源，团队具备长期工程验证经验，深度洞察应用场景，提供从选型到调试的全流程方案。

·高效研发：有限元仿真 + 快速验证，可针对客户设备低成本、快周期完成升级改造，适配产线更迭需求。

·稳定交付：成熟供应链与品控体系，保障质量一致性与交期，支撑客户批量量产。

·丰富生态：自主 + 代理双轮驱动，产品谱系持续升级，覆盖从小尺寸科研到大面积工业量产全场景。

四、使命愿景：引领国产，定义标准

朗为科技以 “让核心部件选配更安心”为使命，以“打造真空设备中国‘芯’”为愿景，坚守守信、专注、实干、创新的价值观，信守承诺、客户至上，以数据与实绩说话，持续突破关键技术，致力于制定行业标准、提升国产真空设备核心竞争力。

面向半导体、光学、显示、新能源、汽车、装饰镀膜等高端领域，朗为科技将持续深耕真空镀膜核心部件，以自主创新打破国外垄断，以稳定可靠助力产业升级，与全球客户携手共赢，共筑真空镀膜装备国产化新未来。

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